Pacchetto con pompa turbopump Pfeiffer HiPace 80 NEO Conflat CF da 4,5 pollici e pompa scroll a secco HiScroll 6 per lavorazioni grezze con unità di azionamento TC 80, kit di raffreddamento ad aria e OmniControl 200. Questo pacchetto di pompa turbo Pfeiffer HiPace 80 con flangia di ingresso Conflat CF da 4,5" include una pompa per vuoto a secco Pfeiffer HiScroll 6. Questa HiPace 80 NEO ha una velocità di pompaggio di 67 l/s e una pressione massima di 3,5 x
10-10 Torr. La pompa è dotata di un'unità di azionamento elettronica TC 80 integrata. Questo pacchetto include un'unità di controllo con display OmniControl 200 e un alimentatore con ampio display a LED (cavo di alimentazione CA incluso). L'OmniControl 200 alimenta, comunica e controlla la pompa tramite un cavo di collegamento al controller lungo 3 metri incluso (codice articolo P103335) con porte M8 integrate per gli accessori e un connettore M12 per il collegamento del cavo di comunicazione RS485 incluso (codice articolo P1012287). Questo pacchetto include anche una ventola di raffreddamento ad aria radiale che si collega a una delle porte M8 sul cavo di collegamento del controller ed è alimentata dalla pompa. Per proteggere la pompa dai detriti, è presente una protezione antischeggia. Una protezione con filtro a maglia fine (0,8 mm) è inclusa nel pacchetto. Questo pacchetto turbopompa include una pompa di aspirazione, ma non include linee di aspirazione, camera a vuoto, manometri o valvole. Alcuni aggiornamenti potrebbero includere: un kit di raffreddamento ad acqua, valvole di sfiato a solenoide o valvole di spurgo del gas di tenuta. Tutti questi articoli sono disponibili e venduti separatamente da Ideal Vacuum.
Informazioni sulla pompa turbo HiPace 80 NEO con flangia Conflat da 4,5 pollici Le pompe turbomolecolari per alto vuoto Pfeiffer HiPace 80 NEO con flangia di ingresso Conflat CF da 4,5 pollici e flangia di uscita KF-16 hanno una velocità di pompaggio di 67 litri al secondo (l/s) e una pressione finale di 3,5 x
10-10 Torr. La pompa può essere montata in qualsiasi orientamento. È richiesta un'alimentazione di ingresso di 24 V CC con un massimo di 110 Watt. Questa pompa Pfeiffer HiPace 80 NEO è dotata di un'unità di azionamento TC 80 integrata montata lateralmente alla pompa, dotata di un singolo connettore X3 (D-Sub a 15 pin) per l'alimentazione della pompa, comunicazioni RS485 e porte accessorie M8 (per controllare una ventola di raffreddamento ad aria o una valvola di sfiato a solenoide). Questa pompa turbo HiPace 80 con ingresso CF da 4,5 pollici e unità di azionamento TC 80 ha il codice prodotto Pfeiffer: PM P080 311 10.
Informazioni sulla pompa a spirale a secco HiScroll 6 Questa pompa a spirale a secco Pfeiffer HiScroll 6 per pre-iniezione/svuotamento ha una velocità di pompaggio di 3,6 cfm (6,1 m³/h) e un vuoto limite di 1,5 x 10-2 Torr (2 x 10-2 mbar). È dotata di porte di ingresso e uscita KF-25 (NW25). Richiede alimentazione monofase da 100-240 V CA, 50/60 Hz. Il cavo di alimentazione CA è incluso. La pompa HiScroll 6 assorbe 4 A a 120 V CA (2 A a 240 V CA) ed è estremamente silenziosa, con una rumorosità di 48 dB(A). Questa pompa HiScroll è dotata di protezione interna del motore e di un gas ballast a due stadi integrato che consente il pompaggio di vapori condensabili, inclusi acqua, solventi, acidi e basi diluiti. La pressione massima del gas ballast, in aria secca o inerte, è di 21,7 psi (1500 hPa). La pompa è dotata di un controller inverter integrato che consente il controllo manuale della pompa tramite pulsanti di facile utilizzo, oppure da remoto tramite RS485, se collegata a un controller Pfeiffer DCU o OmniControl, oppure a un'interfaccia software fornita dall'utente. Il controller della pompa è dotato di una modalità standby e, quando attivo, riduce la velocità della pompa al 50% della velocità massima per ridurre l'usura delle guarnizioni di tenuta e aumentare la durata dei cuscinetti. Questa pompa scroll a secco Pfeiffer HiScroll 6 ha il codice PD S10 000.
Informazioni sull'unità di controllo dell'azionamento OmniControl 200 Il controller per turbopompe Pfeiffer OmniControl 200 può essere installato su banco o su rack ed è progettato per azionare le turbopompe Pfeiffer HiPace 80 e HiPace 300H dotate di unità di azionamento TC 80 integrata. OmniControl 200 fornisce 24 V CC a un massimo di 200 Watt all'unità di azionamento elettronica TC 80, che a sua volta alimenta la pompa. Il cavo di collegamento necessario tra OmniControl 200 e TC 80 è incluso. Il cavo di collegamento non solo alimenta la pompa, ma dispone anche di porte M8 per il collegamento dell'unità di raffreddamento ad aria forzata radiale inclusa e/o di una valvola di tenuta del gas. L'alimentazione in ingresso di OmniControl 200 è di 115/230 V CA e un cavo di alimentazione standard da 115 V CA è incluso. Il codice prodotto Pfeiffer per questa unità di controllo e alimentatore per turbopompe OmniControl 200 è PE D50 100 0.
Informazioni sull'unità ventola di raffreddamento ad aria radiale Questa ventola di raffreddamento ad aria Pfeiffer si monta lateralmente sulle pompe turbo HiPace 80 NEO e fornisce un flusso d'aria perpendicolare alla pompa. Questa ventola di raffreddamento ad aria si collega a una delle porte accessorie del cavo TC 80-OmniControl. L'unità di raffreddamento ad aria è sempre in funzione quando la pompa è accesa. Questa ventola di raffreddamento ad aria radiale ha il codice Pfeiffer PM Z01 367.
Le applicazioni per questo pacchetto includono:- Spettrometria di massa
- Spettrometria di massa mediante cromatografia gassosa (GC/MS)
- Spettrometria di massa a cromatografia liquida (LC/MS)
- Spettrometria di massa al plasma accoppiato induttivamente (ICP-MS)
- Spettrometria di massa a tempo di volo (TOF)
Il vuoto nella ricerca e nello sviluppo:- Fisica delle alte energie
- Tecnologia di fusione
- Ricerca generale UHV
- Sorgenti di luce di sincrotrone Acceleratori di particelle
Strumenti nanotecnologici:- Microscopia elettronica
- Microscopia elettronica a scansione (SEM)
- Microscopia elettronica a trasmissione (TEM)
- Sistemi a fascio ionico focalizzato (FIB)
- Analisi di superficie
- Produzione di semiconduttori
Lavorazione industriale sotto vuoto:- Deposizione di film sottili:
- Apparecchiature per il rivestimento del vetro (vetro architettonico e automobilistico, display a schermo piatto)
- Produzione di celle solari a film sottile (fotovoltaiche)
- Supporti dati ottici (CD, DVD, dischi magneto-ottici)
- supporti di memorizzazione magnetici
- Trattamenti superficiali
- Rivestimento ottico (oftalmico, optoelettronica di precisione)
- Rivestimento in rotoli/nastri su pellicole o lamine
Elaborazione del dispositivo:- Produzione di tubi catodici per TV e monitor
- Evacuazione delle lampade (illuminazione autostradale, proiettori)
- Tubi a raggi X e dispositivi elettronici
Processi generali:- Forni a vuoto
- Metallurgia
Questo pacchetto è disponibile nel nostro inventario come kit, composto da numerose parti separate, ciascuna delle quali è elencata nella sezione
"Disponibilità dei componenti del kit" qui sotto. I manuali di istruzioni sono disponibili nella sezione download.