Pacchetto pompa turbo Pfeiffer HiPace 80 NEO DN 63 ISO-K 63 con unità di azionamento TC 80 OmniControl 200 e kit di raffreddamento ad aria

Questo pacchetto di pompa turbo Pfeiffer HiPace 80 NEO con flangia di ingresso DN 63 ISO-K 63 ha una velocità di pompaggio di 67 l/s e una pressione finale di 7,5 x ^10-8 Torr. La pompa è dotata di un'unità di azionamento elettronica TC 80 integrata. Questo pacchetto include un'unità di controllo con display OmniControl 200 e un alimentatore con ampio display a LED (cavo di alimentazione CA incluso). L'OmniControl 200 alimenta, comunica e controlla la pompa tramite un cavo di collegamento al controller lungo 3 metri incluso (codice articolo P103335) con porte M8 integrate per gli accessori e un connettore M12 per il collegamento del cavo di comunicazione RS485 incluso (codice articolo P1012287). Questo pacchetto include anche una ventola di raffreddamento ad aria radiale che si collega a una delle porte M8 sul cavo di collegamento del controller ed è alimentata dalla pompa. Per proteggere la pompa dai detriti, questo pacchetto include anche una protezione antischegge con schermo a maglia fine (0,8 mm). Questo pacchetto turbopompa non include pompa di aspirazione, linee di aspirazione, camera a vuoto, manometri o valvole. Alcuni upgrade potrebbero includere: un kit di raffreddamento ad acqua, valvole di sfiato a solenoide o valvole di spurgo del gas di tenuta. Tutti questi articoli sono disponibili e venduti separatamente da Ideal Vacuum.

Informazioni sulla pompa turbo HiPace 80 NEO con flangia DN63 ISO-K
Le pompe turbomolecolari per alto vuoto Pfeiffer HiPace 80 con flangia di ingresso ISO-K DN63 e flangia di uscita KF-16 hanno una velocità di pompaggio di 67 litri al secondo (l/s) e una pressione finale di 7,5 x 10-8 Torr. La pompa può essere montata in qualsiasi orientamento. È richiesta un'alimentazione di ingresso di 24 V CC con un massimo di 110 Watt. Questa pompa Pfeiffer HiPace 80 NEO è dotata di un'unità di azionamento TC 80 integrata montata lateralmente alla pompa, dotata di un singolo connettore X3 (D-Sub a 15 pin) per l'alimentazione della pompa, comunicazioni RS485 e porte M8 per accessori (per controllare una ventola di raffreddamento ad aria o una valvola di sfiato a solenoide).

Informazioni sull'unità di controllo dell'azionamento OmniControl 200
Il controller per turbopompe Pfeiffer OmniControl 200 può essere installato su banco o su rack ed è progettato per azionare le turbopompe Pfeiffer HiPace 80 e HiPace 300H dotate di unità di azionamento TC 80 integrata. OmniControl 200 fornisce 24 V CC a un massimo di 200 Watt all'unità di azionamento elettronica TC 80, che a sua volta alimenta la pompa. Il cavo di collegamento necessario tra OmniControl 200 e TC 80 è incluso. Il cavo di collegamento non solo alimenta la pompa, ma dispone anche di porte M8 per il collegamento dell'unità di raffreddamento ad aria forzata radiale inclusa e/o di una valvola di tenuta del gas. L'alimentazione in ingresso di OmniControl 200 è di 115/230 V CA e un cavo di alimentazione standard da 115 V CA è incluso. Il codice prodotto Pfeiffer per questa unità di controllo e alimentatore per turbopompe OmniControl 200 è PE D50 100 0.

Informazioni sull'unità ventola di raffreddamento ad aria radiale
Questa ventola di raffreddamento ad aria Pfeiffer si monta lateralmente sulle pompe turbo HiPace 80 NEO e fornisce un flusso d'aria perpendicolare alla pompa. Questa ventola di raffreddamento ad aria si collega a una delle porte accessorie del cavo da TC 80 a OmniControl. L'unità di raffreddamento ad aria è sempre in funzione quando la pompa è accesa. Questa ventola di raffreddamento ad aria radiale ha il codice Pfeiffer PM Z01 367.

Le applicazioni per questo pacchetto includono:

• Spettrometria di massa
• Spettrometria di massa mediante cromatografia gassosa (GC/MS)
• Spettrometria di massa a cromatografia liquida (LC/MS)
• Spettrometria di massa al plasma accoppiato induttivamente (ICP-MS)
• Spettrometria di massa a tempo di volo (TOF)

Il vuoto nella ricerca e nello sviluppo:

• Fisica delle alte energie
• Tecnologia di fusione
• Ricerca generale UHV
• Sorgenti di luce di sincrotrone Acceleratori di particelle

Strumenti nanotecnologici:

• Microscopia elettronica
• Microscopia elettronica a scansione (SEM)
• Microscopia elettronica a trasmissione (TEM)
• Sistemi a fascio ionico focalizzato (FIB)
• Analisi di superficie
• Produzione di semiconduttori

Lavorazione industriale sotto vuoto:

• Deposizione di film sottili:
• Apparecchiature per il rivestimento del vetro (vetro architettonico e automobilistico, display a schermo piatto)
• Produzione di celle solari a film sottile (fotovoltaiche)
• Supporti dati ottici (CD, DVD, dischi magneto-ottici)
• supporti di memorizzazione magnetici
• Trattamenti superficiali
• Rivestimento ottico (oftalmico, optoelettronica di precisione)
• Rivestimento in rotoli/nastri su pellicole o lamine

Elaborazione del dispositivo:

• Produzione di tubi catodici per TV e monitor
• Evacuazione delle lampade (illuminazione autostradale, proiettori)
• Tubi a raggi X e dispositivi elettronici

Processi generali:

• Forni a vuoto
• Metallurgia

Questo pacchetto è disponibile nel nostro inventario come kit, composto da numerose parti separate, ciascuna delle quali è elencata nella sezione "Disponibilità dei componenti del kit" qui sotto. I manuali di istruzioni sono disponibili nella sezione download.