Sistema di erogazione di vapore di precursore liquido per deposizione a strati atomici (ALD), cilindro in acciaio inox 304L, modello DOT-3E-1800 da 150 cm³.

Nei processi di deposizione chimica da fase vapore (CVD), deposizione chimica da fase vapore metallorganica (MOCVD) e deposizione a strati atomici (ALD) è necessario un flusso controllato di vapore in fase gassosa a partire da un precursore liquido. Queste bombole per l'erogazione di vapore liquido contengono un gorgogliatore integrato per contenere il vapore del precursore in un flusso di gas tampone. Le bombole sono realizzate in acciaio inossidabile 316 resistente agli agenti chimici e sono dotate di valvole a sfera a ¼ di giro in ingresso e in uscita. La bombola è progettata per resistere a pressioni fino a 1800 PSI (@ 37°C).

La pressione massima nominale delle bombole varia in base alla temperatura. NON pressurizzare le bombole oltre i rispettivi limiti di temperatura.

La direzione del flusso è stampata su ciascuna valvola. Quando il gas tampone fluisce nella direzione corretta verso il processo di deposizione, si formano bolle sul fondo della bombola che risalgono attraverso il liquido precursore. Ciò consente un flusso costante e regolare di vapore diluito del precursore nel gas tampone, che in genere è elio, neon o argon. Queste bombole per l'erogazione di vapore di precursore liquido possono essere riscaldate o raffreddate per controllare la pressione di vapore e la concentrazione del precursore. Questo permette di generare una concentrazione di flusso precisa.

Le valvole di ingresso e di uscita sono valvole a sfera con raccordo Swagelok® da ¼ di pollice, non adatte per liquidi piroforici. Per le applicazioni ALD con liquidi piroforici altamente infiammabili, i nostri cilindri di erogazione sono dotati di valvole a membrana per una maggiore sicurezza, risultando idonei per liquidi piroforici come trimetilalluminio (TMA), trietilalluminio (TEA), dietilzinco (DEZn) e trimetilgallio (TMGa).