Système de distribution de précurseur liquide par dépôt de couches atomiques (ALD) en cylindre de 150 cm³ en acier inoxydable 304L, conforme à la norme DOT-3E-1800.

L'injection contrôlée de vapeur gazeuse à partir d'un précurseur liquide est essentielle aux procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), de dépôt chimique en phase vapeur organométallique (MOCVD) et de dépôt de couches atomiques (ALD). Ces bouteilles de distribution de vapeur gazeuse contiennent un barboteur intégré qui permet de confiner la vapeur du précurseur dans un flux de gaz tampon. Fabriquées en acier inoxydable 316 résistant aux produits chimiques, elles sont équipées de vannes à bille à quart de tour à l'entrée et à la sortie. La bouteille est conçue pour résister à une pression maximale de 1 800 psi (à 37 °C).

La pression maximale admissible des bouteilles varie en fonction de la température. NE PAS pressuriser les bouteilles au-delà de leurs limites de température respectives.

Le sens d'écoulement est indiqué sur chaque vanne. Lorsque le gaz tampon circule dans le sens approprié vers le processus de dépôt, des bulles se forment au fond du cylindre et remontent à travers le précurseur liquide. Ceci assure un flux constant et régulier de vapeur de précurseur diluée dans le gaz tampon, généralement de l'hélium, du néon ou de l'argon. Ces cylindres de gaz contenant la vapeur de précurseur liquide peuvent être chauffés ou refroidis afin de contrôler la pression et la concentration de la vapeur, permettant ainsi de générer une concentration précise.

Les vannes d'entrée et de sortie sont des vannes à bille Swagelok® de ¼ pouce, non conçues pour les liquides pyrophoriques. Pour les applications ALD avec des liquides pyrophoriques hautement inflammables, nos bouteilles de distribution sont équipées de vannes à membrane pour une sécurité accrue, les rendant compatibles avec des liquides pyrophoriques tels que le triméthylaluminium (TMA), le triéthylaluminium (TEA), le diéthylzinc (DEZn) et le triméthylgallium (TMGa).